在商業(yè)上應用的玻璃基板，其主要厚度為0.7 mm及0.5m m，且即將邁入更薄（如0.4mm）厚度之制程。基本上，一片TFT- LCD面板需使用到二片玻璃基板，分別供作底層玻璃基板及彩色濾光片（COLOR FILTER）之底板使用。一般玻璃基板制造供貨商對于液晶面板組裝廠及其彩色濾光片加工制造廠之玻璃基板供應量之比例約為1:1.1至1:1.3左右。 LCD所用之玻璃基板概可分為堿玻璃及無堿玻璃兩大類；堿玻璃包括鈉玻璃及中性硅酸硼玻璃兩種，多應用于TN及STN LCD上，主要生產(chǎn)廠商有日本板硝子（NHT）、旭硝子（Asahi）及中央硝子（Central Glass）等，以浮式法制程生產(chǎn)為主；無堿玻璃則以無堿硅酸鋁玻璃（Alumino Silicate Glass，主成分為SiO2、Al2O3、B2O3及BaO等）為主，其堿金屬總含量在1%以下。

玻璃基板由CF和TFT組成，如圖：

玻璃基板的具體生產(chǎn)工藝

1、TFT陣列基板形成階段

TFT陣列工藝主要是清洗、成膜、然后黃光制板，再通過蝕刻工藝形成所需的圖形，然后根據(jù)光罩的數(shù)量進行循環(huán)工藝。在這個循環(huán)過程中，必須首先送清潔過的玻璃基板進濺射機鍍上一層金屬后，采用黃光和蝕刻工藝形成柵極、區(qū)域圖形，隋后玻璃基板經(jīng)光阻剝離并用光刻膠清洗，再以薄膜區(qū)電漿輔助化學相沉積機臺形成用作主動區(qū)域,經(jīng)過一系列的協(xié)作.后以薄膜區(qū)化學氣相沉積楊臺上形成TFT區(qū)域保護層,挖出接角也洞,再濺鍍上一層氧化錮錫膜(ITO),再用黃光及蝕刻區(qū)制程形成畫素區(qū)域圖樣而在這循環(huán)制程中以后通TFT蝕刻制程為主要步驟.

TFT的結(jié)構(gòu)依閘,源,汲極沉積的先后順序,大致可分為四類,如圖,目前正在產(chǎn)量TFT多是以反轉(zhuǎn)堆疊式結(jié)構(gòu)為主,而因它構(gòu)造簡單及制程容易則廣泛被TFT制造業(yè)者所采用,又由于制程有差異分為:1)后通道蝕刻TFT,2)后通護TFT或再稱為三層結(jié)構(gòu)TFT.TFT的制作流程關鍵步驟是蝕刻后通道端的N型非晶矽.以形成閘極可控制的通道,這一般是干蝕刻法,而造成漏電流的原因可能后通道在作干鹿記得時容易造成物摶殘留。

二，TFT-LCD形成階段

在TFT-LCD玻璃完成所有制造工藝后，再配上另一塊帶有紅、綠、藍彩色濾光膜的玻璃。先定向膜刷,定向處理,間隔物的涂布及上框膠之后將兩片玻璃上下密封，切割裂片，銳化邊緣，清潔，注入液晶并密封，最后進行外觀檢查和電測量。最重要的步驟如下：

1. 定向處理

目前整體采用的處理方法是刷涂處理，主要是用在金屬滾軸上卷起的絨布對燒成后的定向膜進行刷磨拋光，使液晶分子預先按一定方向取向.

2. 墊片的展開

目的是獲得均勻的液晶厚度。如果分散密度高，可以獲得更均勻的CELL GAP。如果墊片有漏光，質(zhì)量會下降。相反，間隔物分散越低，就無法獲得均勻的 CELL GAP。也會影響質(zhì)量。因此，涂抹適量均勻的墊片非常重要。目前用灑水法控制密度比較容易。必須先噴墊片，在封CF和TFT之前封封膠組合。

3.面板切割

每塊面板都是通過TFT和CF的密封組合，然后用超硬鋼刀輥切割和壓裂得到的。

未來窄邊框的外觀、尺寸和模組外觀，薄型化發(fā)展，超硬鋼刀無法滿足要求，未來會采用激光切割方式。

4. 液晶注入

1.將玻璃與外框固定在機器上，采用直下式的方法注入液晶。注入液晶時，應注意避免墊片斷裂和墊片聚集。

2.CELL內(nèi)部抽真空后，將CELL的液晶注入口浸入液晶槽中，然后用氮氣破真空。內(nèi)部和外部壓力差和毛細管現(xiàn)在將導致液晶注入到 CELL 內(nèi)部。

注入液晶時液晶的形狀和排列方式

墊片破碎：注入液晶時，液晶顆粒較大，兩塊玻璃壓在一起時破碎。

Spacer 聚集：注入液晶時，有大液晶和小液晶。因為液晶太小，會在中間的凹槽里滾動，幾顆碰在一起就形成了一個Spacer聚集。

5. 外觀檢查和電氣測量

LCD CELL項目的主要檢查是注入液晶后的對準檢查，初始點燈檢查和最終檢查，這些檢查動作是在視覺上進行的。

3. LCD模組形成階段

模組制造過程包括動態(tài)芯片玻璃基板的連接、可燒式印刷電路、壓合、密封、機箱和背光的組裝和測試。

玻璃基板的發(fā)展趨勢

1. 高分辨率 2. 高亮度 3. 廣視角 4. 低功耗 5. 制造成本低

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