本創(chuàng)造牽涉到電路板印刷技術(shù)領(lǐng)域,特別牽涉到一種HDI多層板鐳射盲孔對位辦法。
環(huán)境技術(shù):
在印制線路板行業(yè)中,出產(chǎn)高疏密程度互連印制線路板時,鐳射盲孔與圖形的對位問題較難扼制。傳統(tǒng)的HDI多層板鐳射盲孔的對位加工形式是經(jīng)過機(jī)械鉆孔機(jī)運(yùn)用內(nèi)層靶孔作定位完成。
HDI多層板鐳射盲孔的實(shí)際加工精密度主要受以下兩方面影響:鐳射機(jī)本身的加工精密度、鐳射對位孔的精密度。鐳射對位孔傳統(tǒng)的加工形式是經(jīng)過靶沖機(jī)鉆出定位孔,而后運(yùn)用機(jī)械鉆孔完成,因?yàn)闄C(jī)械鉆孔機(jī)本身存在加工精密度誤差,存在鐳射對位偏差,因此減低了鐳射盲孔精密度。
技術(shù)成功實(shí)現(xiàn)要素:
本創(chuàng)造實(shí)行例所要解決的技術(shù)問題在于,供給一種HDI多層板鐳射盲孔對位辦法,以使增長鐳射盲孔精密度。
為理解決上面所說的技術(shù)問題,本創(chuàng)造實(shí)行例提出了一種HDI多層板鐳射盲孔對位辦法,涵蓋步驟:
A、開料:依據(jù)所需尺寸裁切覆銅板,磨板邊待用;
B、內(nèi)層線路:裁切后的覆銅板通過內(nèi)層前處置后貼干膜,運(yùn)用負(fù)片菲林ccd暴光并腐刻出內(nèi)層線路圖形,獲得內(nèi)層芯板,那里面,內(nèi)層芯板邊四角還預(yù)設(shè)有等距x-ray靶子,右上角標(biāo)靶子識△防呆;
C、棕化:經(jīng)過化學(xué)反響,使銅面粗化和萌生一層平均棕色鈍化膜;
D、壓合:認(rèn)為合適而使用電壓機(jī),利用過電銅箔萌生卡路里及真空和施增大壓力力,將PP片熔融把銅箔與內(nèi)層芯板粘拼湊形成復(fù)合板;
E、x-ray打靶:依據(jù)靶子數(shù)值,認(rèn)為合適而使用面償還定距打靶,一次性將鐳射對位孔鉆出;
F、激光鐳射:認(rèn)為合適而使用 UV鐳射機(jī)經(jīng)過鐳射對位孔定位,加工激光盲孔;
G、等離子:激光鐳射后,認(rèn)為合適而使用等離子除膠標(biāo)準(zhǔn)樣式將鐳射對位孔內(nèi)PP殘膠及盲孔底部的黑色氧氣化銅去除;
H、水準(zhǔn)沉銅:利用化學(xué)反響,在通過除膠后的盲孔上沉上銅,導(dǎo)通里外層線路。
進(jìn)一步地,所述步驟B中靶子核心距線內(nèi)層芯板板邊均為5mm。
進(jìn)一步地,所述鐳射對位孔有4個,那里面一個與標(biāo)識△防呆的靶子核心距為15mm,剩下3個鐳射對位孔作別與對應(yīng)的靶子核心的距離均為10mm。
本創(chuàng)造實(shí)行例的有好處效果為:省略了機(jī)械鉆孔加工鐳射對位孔的步驟,簡化流程、減低成本的同時也防止因機(jī)械鉆孔本身的加工精密度誤差導(dǎo)致的鐳射偏位,大幅度增長了多層板鐳射盲孔的精密度。
附圖解釋明白
圖1是本創(chuàng)造實(shí)行例的HDI多層板鐳射盲孔對位辦法的流程圖。
圖2是本創(chuàng)造實(shí)行例的4層HDI板的結(jié)構(gòu)概況圖。
具體實(shí)行形式
需求解釋明白的是,在不沖突的事情狀況下,本提出請求中的實(shí)行例及實(shí)行例中的特點(diǎn)標(biāo)志可以互相接合,下邊接合附圖和具體實(shí)行例對本創(chuàng)造作進(jìn)一步周密解釋明白。
本創(chuàng)造實(shí)行例中若得法向性指使(諸如上所述、下、左、右、前、后……)僅用于詮釋在某一特別指定姿勢(如附圖所示)下各器件之間的相對位置關(guān)系、運(yùn)動事情狀況等,假如該特別指定姿勢發(fā)生變更時,則該方向性指使也相應(yīng)地隨之變更。
額外,在本創(chuàng)造中若牽涉到“第1”、“第二”等的描寫僅用于描寫目標(biāo),而不可以了解為指使或暗中示意其相對關(guān)緊性還是隱含指明所指使的技術(shù)特點(diǎn)標(biāo)志的數(shù)目。由此,框定有“第1”、“第二”的特點(diǎn)標(biāo)志可以明示還是隱含地涵蓋至少一個該特點(diǎn)標(biāo)志。
請參考圖1,本創(chuàng)造實(shí)行例的HDI多層板鐳射盲孔對位辦法,涵蓋步驟:
A、開料:依據(jù)所需尺寸裁切覆銅板,磨板邊待用;
B、內(nèi)層線路:裁切后的覆銅板通過內(nèi)層前處置后貼干膜,運(yùn)用負(fù)片菲林ccd暴光并腐刻出內(nèi)層線路圖形,獲得內(nèi)層芯板,那里面,內(nèi)層芯板邊四角還預(yù)設(shè)有等距x-ray靶子,右上角標(biāo)靶子識△防呆;
C、棕化:經(jīng)過化學(xué)反響,使銅面粗化和萌生一層平均棕色鈍化膜,以利于壓合后的接合力達(dá)到質(zhì)量要求;
D、壓合:認(rèn)為合適而使用電壓機(jī),利用過電銅箔萌生卡路里及真空和施增大壓力力,將PP片熔融把銅箔與內(nèi)層芯板粘拼湊形成復(fù)合板;
E、x-ray打靶:依據(jù)靶子數(shù)值,認(rèn)為合適而使用面償還定距打靶,一次性將鐳射對位孔鉆出;
F、激光鐳射:認(rèn)為合適而使用 UV鐳射機(jī)經(jīng)過鐳射對位孔定位,加工激光盲孔;
G、等離子:激光鐳射后,認(rèn)為合適而使用等離子除膠標(biāo)準(zhǔn)樣式將鐳射對位孔內(nèi)PP殘膠及盲孔底部的黑色氧氣化銅去除;
H、水準(zhǔn)沉銅:利用化學(xué)反響,在通過除膠后的盲孔上沉上銅,導(dǎo)通里外層線路。
具體實(shí)行時,步驟E中,依據(jù)開料尺寸,得出x-ray靶子及鐳射對位的具體坐標(biāo)值,挑選x-ray面償還定距鉆靶,輸入x-ray靶子及鐳射對位坐標(biāo)值,直接鉆出鐳射對位孔。步驟F中,UV鐳射機(jī)抓拍鐳射對位孔,經(jīng)過視物感覺定位,以加工盲孔。
如圖2所示,以4層HDI板為例,先依據(jù)所需尺寸裁切覆銅板,磨板邊待用;通過內(nèi)層前處置后貼干膜,運(yùn)用負(fù)片菲林ccd暴光并腐刻出內(nèi)層線路圖形,獲得內(nèi)層芯板(涵蓋圖中L2層、L3層及兩者半中腰的局部);經(jīng)過化學(xué)反響,使銅面粗化和萌生一層平均棕色鈍化膜,以利于壓合后的接合力達(dá)到質(zhì)量要求;認(rèn)為合適而使用電壓機(jī),利用過電銅箔萌生卡路里及真空和施增大壓力力,將PP片(L1層與L2層之間的局部以及L3層與L4層之間的局部)熔融把銅箔(L1層和L4層)與內(nèi)層芯板粘拼湊形成復(fù)合板;依據(jù)靶子數(shù)值,認(rèn)為合適而使用面償還定距打靶,一次性將鐳射對位孔鉆出;認(rèn)為合適而使用 UV鐳射機(jī)經(jīng)過鐳射對位孔定位,加工激光盲孔,用于導(dǎo)通L1層與L2層以及L3層與L4層;激光鐳射后,認(rèn)為合適而使用等離子除膠標(biāo)準(zhǔn)樣式將鐳射對位孔內(nèi)PP殘膠及盲孔底部的黑色氧氣化銅去除;利用化學(xué)反響,在通過除膠后的盲孔上沉上銅,導(dǎo)通里外層線路,即L1層與L2層以及L3層與L4層。
作為一種實(shí)行形式,步驟B中靶子核心距線內(nèi)層芯板板邊均為5mm。
作為一種實(shí)行形式,鐳射對位孔有4個,那里面一個與標(biāo)識△防呆的靶子核心距為15mm,剩下3個鐳射對位孔作別與對應(yīng)的靶子核心的距離均為10mm。
本創(chuàng)造只通過一次鉆孔(鐳射對位孔),直接經(jīng)過鐳射對位孔定位,只萌生一次誤差,增長了鐳射盲孔與圖形的對位精密度,且能夠?qū)⒕芏仍鲩L到1mil以內(nèi);況且只消對工藝施行局部更改,無須增加成本。
盡管已經(jīng)示出和描寫了本創(chuàng)造的實(shí)行例,對于身手域的平常的技術(shù)擔(dān)任職務(wù)的人而言,可以了解在不擺脫本創(chuàng)造的原理和神魂的事情狀況下可以對這些個實(shí)行例施行多種變動、改正、調(diào)換和變形,本創(chuàng)造的范圍由所附權(quán)益要求及其等同范圍框定。
iPcb專注于高端PCB電路板研發(fā)生產(chǎn)。產(chǎn)品包括微波高頻電路板、高頻混壓電路板、FR4雙面多層電路板、超高多層電路板、1階到6階HDI電路板、任意階HDI電路板、軟硬(剛撓)結(jié)合電路板、埋盲孔電路板、盲槽電路板、背鉆電路板、IC載板電路板、厚銅電路板等。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于工業(yè)4.0、通訊、工控、數(shù)碼、電源、計(jì)算機(jī)、汽車、醫(yī)療、航天、儀器、儀表、軍工、物聯(lián)網(wǎng)等領(lǐng)域。客戶分布于中國大陸及臺灣、韓國、日本、美國,巴西、印度、俄羅斯、東南亞、歐洲等世界各地。